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    工业纯铁等离子体氮化及Ti/TiN多层薄膜沉积复合处理

    发布时间:2018-9-5 11:36:00   来源:盛龙华纯铁    浏览次数:237

    为改善工业纯铁的耐磨抗腐蚀性能,采用低偏压高频等离子浸没离子注入及氮化技术(HLPⅢ) 对工业纯铁进行表面改性,然后利用非平衡磁控溅射技术(UBMS) 在低压高频等离子浸没离子注入及氮化处理样品表面制备Ti/TiN多层膜。研究发现,工业纯铁在3.5kV 脉冲电压(频率15.15kHz ,占空比25 %) 下等离子注入及氮化3h 后,表面形成了深度达4μm的氮化层,其相结构以ε-Fe3N 和γ-Fe4N 结构为主。等离子氮化及Ti/ TiN 多层薄膜沉积复合处理后,工业纯铁的硬度、耐磨损性能以及抗腐蚀性能均得到大大提高,等离子注入及氮化形成的氮化层有利于提高Ti/TiN多层薄膜与工业纯铁基体之间的结合力和耐磨性。

      等离子体加工处理,例如氮化、碳化等,在工业刀具及零件上得到广泛应用,这种方法可以改变金属表面化学成分、结构,形成新相,从而提高材料表面的硬度、耐磨损以及抗腐蚀等特性,防止材料过早的失效。薄膜沉积技术是材料表面改性的一个重要手段,通过在材料表面上沉积不同功能的薄膜,从而提高材料表面的硬度、耐磨损等特性。薄膜沉积技术中,薄膜与基体的结合强度很重要,两者之间的结合力一定程度上取决于基体的性质和结构。在沉积薄膜之前,用等离子体对基体表面进行处理,在基体表面形成一定特性的改性层,是提高薄膜与基体的结合力的关键,等离子氮化与薄膜沉积技术结合起来对材料表面进行复合改性,对提高材料的各项性能有着重大意义。

      TiN 薄膜由于具有高硬度、优良的耐摩擦磨损性能、良好的抗腐蚀性能得到广泛应用,在工件表面沉积TiN 薄膜之前进行等离子氮化有利于提高薄膜的耐磨性和薄膜与基体的结合强度,很多研究者首先对钛合金、铝合金、不锈钢等材料进行等离子氮化处理,再沉积TiN 薄膜,改善了材料表面的机械性能并提高了膜基结合力,其硬度、耐磨损、抗氧化及抗腐蚀性能等明显提高,有利于减少薄膜表面与基体开裂倾向, 同时改善其摩擦磨损性能。本文采用低压高频等离子浸没离子注入及氮化技术(HLPIII)对工业纯铁进行表面处理,进一步利用非平衡磁控溅射技术(UBMS) 在氮化的工业纯铁上制备了Ti/TiN多层膜,研究了复合处理后材料的机械性能以及抗腐蚀性能。

    实验方法

    样品制备

      将纯度为99.8 %的工业纯铁加工成(<10mm ×1.5mm的试样,依次用240# 到1200 # 的SiC 砂纸湿磨,再用1μm的金刚石抛光液对表面进行机械抛光。样品处理前经过丙酮和酒精的超声波清洗,并在真空室内经氩离子预溅射,去除样品表面的污染物。

    等离子氮化及TiN薄膜的制备

      利用多功能等离子体浸没离子注入设备进行高频低压等离子体浸没离子注入及氮化,真空室本底真空度为2.5 ×10 - 3 Pa ,通入氮气,N2 分压为0.5Pa ,利用射频电感耦合方式激发形成氮等离子体,通过在工件上施加3.5kV (频率15.15kHz ,占空比25 %) 的脉冲负偏压对工业纯铁进行离子注入及氮化,等离子注入及氮化时间为3h。

      利用UBMS450 型高真空非平衡磁控溅射设备,在离子注入及氮化后的工业纯铁表面进一步合成Ti/ TiN 多层薄膜。本底真空度为1.8 ×10 - 3 Pa ,溅射靶材为纯钛(99.9 %) ,基体温度为20 ℃,溅射电流3 ,基体负偏压50V ,靶基距100mm ,制备TiN 薄膜时,氮气和氩气的流量比为8sccm∶60sccm ,制备纯钛薄膜时氮气和氩气的流量比为0∶60sccm ,一个调制周期内Ti 和TiN 沉积时间分别为72s 和182s , 共4 个周期,薄膜总厚度约为800nm。

      3.5kV 电压下离子注入及氮化的样品以F3.5表示,氮化及沉积Ti/ TiN 多层薄膜复合处理的样品以F3.5/ Ti/ TiN 表示,工业纯铁表面直接制备Ti/ TiN多层薄膜样品以Fe/ Ti/ TiN 表示。

       工业纯铁等离子体氮化及Ti/ TiN多层薄膜沉积复合处理后样品的机械性能以及抗腐蚀性,结果表明:工业纯铁通过低压高频等离子注入及氮化(HLPIII) 表面处理,在- 3.5kV 的脉冲偏压下,表面形成了以ε- Fe3N 和γ- Fe4N 相为主的氮化层,利用直流反应非平衡磁控溅射进一步在氮化后样品上制备Ti/ TiN 多层膜,经过复合处理后,样品硬度和耐磨性进一步提高,在0.9wt %NaCl 溶液,其耐腐蚀性最好。复合处理和未经氮化的基体上Ti/ TiN 多层薄膜样品的临界载荷分别为12N 和2.3N ,说明工业纯铁经等离子注入及氮化后提高了膜基结合力。



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